Desde su primera edición, en el 2008, nuestro premio Exposure Awards ha permitido difundir la obra de más de 300 fotógrafos emergentes y consolidados. Desde hoy, empezamos de nuevo con la búsqueda de talentosos creadores de imágenes para añadirlos a la lista de los que han ido sumándose a lo largo de los años a través de nuestro gran llamamiento internacional.
Este año, nuestro jurado internacional estará formado por los siguientes expertos en el sector: Paul Schiek (TBW Books), Paul Moakley (Revista TIME), Gwen Lee (Singapore International Photography Festival), Rebecca McClelland (Saatchi & Saatchi), Ada Takahashi (Galería Robert Koch) y Mirjam Cavegn (Galería Bildhalle).
Los ganadores del certamen disfrutarán de oportunidades para impulsar su carrera, como una exposición en Nueva York en abril coincidiendo con el Paris Photo New York. Otras ventajas de resultar ganador incluyen premios en efectivo, la publicación de la obra en el anuario The Best of LensCulture – Vol. 4, la proyección de las imágenes en festivales internacionales de fotografía, difusión online y en el sector, ¡y mucho más!
Preséntate pronto al concurso para aprovechar la oferta de inscripción gratis (disponible hasta el 27 de noviembre 2019) y no olvides que las series o presentaciones de 5 o más fotos individuales pueden obtener gratis un informe de revisión por escrito de tu trabajo.
¿Estás listo para lanzarte de lleno a por el 2020? Los ganadores de este premio se darán a conocer a inicios del nuevo año, así que presenta tus trabajos a concurso cuanto antes para empezar con buen pie.
Como siempre, este premio está abierto a fotógrafos de cualquier edad, que trabajen en cualquier parte del mundo y a todos los géneros de la fotografía. ¡Buena suerte!
Más info en la web del premio Exposure Awards